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    题名: THE INFLUENCE OF ANNEALING PROCESS ON PHYSICAL AND ELECTRICAL CHARACTERISTICS OF (Ba0.8Sr0.2)(Ti0.9Zr0.1)O3 THIN FILMS
    作者: 陳開煌;Chen, Kai-Huang;Yang, Cheng-Fu;(東方技術學院電子與資訊系)
    贡献者: 東方技術學院電子與資訊系
    关键词: BSTZ;RF sputtering;Dielectric constant;Leakage current density
    日期: 2008-08
    上传时间: 2010-10-08 09:58:29 (UTC+8)
    關聯: The 6th Asian Meeting on Ferroelectrics (AMF-6)
    显示于类别:[電子與資訊系(遊戲動畫系、動畫科)] 會議論文

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