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    題名: 探討高介電常數材料應用於場效電晶體元件之特性研究
    作者: Chen, Kai-Huang
    Tsai, Jen-Hwan
    Yu, Ann-Ting
    Lin, Chun-Cheng
    陳開煌
    蔡震寰
    余安錠
    林俊成
    (東方設計學院電子與資訊系)
    貢獻者: 東方設計學院電子與資訊系
    關鍵詞: 非揮發性鐵電記憶體
    射頻磁控濺鍍系統
    鐵電薄膜
    記憶窗口
    漏電流
    日期: 2011-05-27
    上傳時間: 2015-07-08 15:26:47 (UTC+8)
    出版者: 高雄縣岡山：空軍軍官學校
    關聯: 第18屆三軍官校基礎學術研討會議事手冊暨論文摘要, 頁1-5
    三軍官校基礎學術研討會
    The 18th Military Symposium on Fundamental Academic Research
    顯示於類別:[電子與資訊系(遊戲動畫系、動畫科)] 會議論文

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